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Wafer Exposure

 

12インチ FOUP 対応全自動タイプ

12 inch Full Automatic for FOUP(Front-Opening Unified Pod)

  • 概要:高精細露光に適した獨自UV光學系とフォトマスクとウエハを高精度に平行出し機構を採用しコンタクト,プロキシミティーまで対応したた全自動露光裝置
  • 用途:MEMS LED etc
  • 仕様:ウエハ12inch アライメント精度 ±1μ (オプションで両面アライメントも可能)

6~8インチ 全自動両面対応

6-8 inch Full Automatic for Double Sides

  • 概要:高精細露光に適した獨自UV光學系とフォトマスクとウエハを高精度に平行出し機構を採用しコンタクト,プロキシミティーまで対応したた全自動露光裝置
  • 用途:MEMS LED etc
  • 仕様:ウエハ6~8 inch アライメント精度 ±1μ (オプションで両面アライメントも可能)

研究開発用手動タイプ

Manual Type for Research and Development

  • 概要:研究開発,小ロット生産まで多用途に対応が可能 コンタクト,ソフトコンタクト,プロキシティーを選択
  • 用途:ガラス,ウエハ,フィルム,セラミック etc 研究開発,小ロット生産
  • 仕様:使用用途に合わせて安価に提案させていただきます。

LED用全自動露光裝置

LED Chip Full Automatic Aligner

  • 概要:2~4インチ兼用/4~6インチ兼用タイプの全自動露光機

      Full automatic Expousur System for 2-4 inches or 4-6 inches

  • 用途:
  • 仕様:処理能力:1st 150枚以上/1時間

            :2nd 130枚以上/1時間

      アライメント精度:0.5μm以下

      Tact Capacity : 1st 150 sheets or more/hour

                               : 2nd 130sheets or more/hour

      Alignment accuracy : lees than 0.5 μm

  • その他:PSS可能

       It is suitable for exposure to PSS (patterned sapphire substrate)

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