投影露光裝置

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  • 概要：獨自開発した高NA投影光學を搭載した　等倍露光投影露光裝置です。

  　　　　　　厚膜レジストにも対応可能です。ウエハ，FPC等の用途により搬送システムの提案もいたします。

  • 用途：MEMS　LED　水晶　FPC　etc
  • 仕様：最大6inchΦ　アライメント精度±1μ（オプションでバックサイドアライメントの対応可能）